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使用次数:289
更新时间:2022-08-05
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1.

工业生产粗硅的主要原理为: SiO 2 2C Si( ) 2CO↑

(1) 若在制粗硅的过程中同时生成了碳化硅,请写出该反应的方程式: ___________

(2) 若在制粗硅的过程中同时生成了碳化硅,且生成的硅和碳化硅的物质的量之比为 5∶1 ,则参加反应的 C SiO 2 的质量比为 __________

(3) 工业上可通过如下流程由粗硅制取纯硅:

Si( ) SiCl 4 (l) Si( )

若上述反应中 Si (粗)和 SiCl 4 的利用率均为 80% ,制粗硅时有 10% SiO 2 转化为 SiC ,则生产 100.8t 纯硅,需纯度为 75% 的石英砂(主要成分为 SiO 2 )多少吨? _____________

(4) 工业上还可以通过下图所示的流程来制取纯硅:

反应 Si( ) 3HCl(g)=SiHCl 3 (l) H 2 (g)

反应 SiHCl 3 H 2 =Si( ) 3HCl

假设在每一轮次的投料生产中,硅元素没有损失,反应 HCl 的利用率为 75% ,反应 H 2 的利用率为 80% ,则在下轮次的生产中,需补充投入 HCl H 2 的体积比为多少? _____________

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题型:计算题
知识点:硅单质
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【答案】

SiO 2 3C SiC 2CO     13:30     500t     4:1

【解析】

【分析】

(1) 根据反应 SiO 2 +2C Si( )+2CO↑ SiO 2 +3C SiC+2CO↑ 及硅和碳化硅的物质的量之比为 5∶1 ,计算出参加反应的 C SiO 2 的质量比;

(2) 根据石英砂和硅之间关系式进行计算;

(3) 由工艺流程与反应 、反应 可知,补充的 HCl 等于损失的 HCl 、补充的氢气等于损失的氢气,分别计算出损失的氯化氢和氢气的物质的量。

【详解】

(1) SiO 2 2C Si( ) 2CO↑ ,硅与碳又反应生成了碳化硅,反应的方程式为,故答案为: SiO 2 3C SiC 2CO↑

(2) 设硅的物质的量为 5xmol ,则碳化硅的物质的量为 xmol ,根据方程式 SiO 2 +2C Si( )+2CO↑ SiO 2 +3C SiC+2CO↑ ,生成 5xmol 硅、 xmol 碳化硅需要碳的物质的量是 10x+3x=13xmol ,二氧化硅的物质的量是 5xmol+xmol=6xmol 、所以参加反应的 C SiO 2 的质量比 =(13x×12)g∶(6x×60)g=13∶30 ,故答案为: 13∶30

(3) 设需要生产 100.8t 纯硅,需纯度为 75% 石英砂 m 吨,则:

= ,解得: m=500t ,故答案为: 500t

(4) 由工艺流程与反应 、反应 可知,补充的 HCl 等于损失的 HCl 、补充的氢气等于损失的氢气,制备 1mol 纯硅需要 1mol 粗硅,由反应 可知需要 HCl 物质的量为 3mol ,故实际通入的 HCl ,补充的 HCl -3mol=1mol ,由反应 可知,需要氢气的物质的量为 1mol ,实际通入氢气为 mol ,补充的氢气为 -1mol=0.25mol ,故需补充投入 HCl H 2 的物质的量之比是 1∶0.25=4∶1 ,故答案为: 4∶1

=
考点梳理:
根据可圈可点权威老师分析,试题“ ”主要考查你对 单质硅 等考点的理解。关于这些考点的“资料梳理”如下:
◎ 单质硅的定义

硅:

①元素符号:Si
②原子结构示意图:
③电子式:
④周期表中位置:第三周期ⅣA族
⑤含量与存在:在地壳中的含量为26.3%,仅次于氧,在自然界中只以化合态存在
⑥同素异形体:晶体硅和无定形硅

◎ 单质硅的知识扩展
(1)硅在地壳中只有化合态,没有游离态。其含量在地壳中居第二,仅次于氧,是构成矿物和岩石的主要成分。
(2)单质硅有晶体硅和无定形硅两种。晶体硅是灰黑色,有金属光泽,硬而脆的固体,它的结构类似金刚石,具有较高的沸点和熔点,硬度也很大,它的导电性介于导体和绝缘体之间,是良好的半导体材料。
(3)化学性质不活泼
①常温下,除与氟气、氢氟酸及强碱溶液反应外,与其他物质不反应

(雕刻玻璃)

②在加热条件下,能与氧气、氯气等少数非金属单质化合


(4)制备:在电炉里用碳还原二氧化硅先制得粗硅:,将制得的粗硅,再与Cl2反应后,蒸馏出SiCl4,然后用H2还原SiCl4可得到纯硅。有关的反应为:
(5)用途:高纯硅可作半导体材料,制造集成电路、晶体管、硅整流器等半导体器件,还可以制造太阳能电池。硅的合金用途也很广,如含硅4%的钢具有良好的导磁性,可用来制造变压器的铁芯;含硅15%左右的钢具有良好的耐酸性,可用来制造耐酸设备。
◎ 单质硅的特性

硅的物理性质和化学性质:

(1)物理性质:晶体硅是灰黑色,有金属光泽,硬而脆的固体,它的结构类似金刚石,具有较高的沸点和熔点,硬度也很大,它的导电性介于导体和绝缘体之间,是良好的半导体材料。 (2)化学性质:化学性质不活泼
①常温下,除与氟气、氢氟酸及强碱溶液反应外,与其他物质不反应

(雕刻玻璃)

②在加热条件下,能与氧气、氯气等少数非金属单质化合


(4)制备:在电炉里用碳还原二氧化硅先制得粗硅:,将制得的粗硅,再与Cl2反应后,蒸馏出SiCl4,然后用H2还原SiCl4可得到纯硅。有关的反应为:

◎ 单质硅的知识点拨

碳族元素中碳和硅的一些特殊规律:

1.金刚石和晶体硅都是原子晶体,但金刚石不导电,晶体硅能导电.且金刚石的熔点(大于3550℃)比硅的熔点(1410℃)高;石墨是过渡型晶体或混合型晶体,也能导电。
2.碳和硅都能跟O2反应生成氧化物,碳的两种氧化物CO和CO2在常温下是气体,而硅的氧化物SiO2 在常温下是固体。
3.碳跟碱溶液不反应,而硅跟碱溶液能反应。
Si+2NaOH+H2O==Na2SiO3+2H2↑
4.碳在高温时能跟水蒸气反应,而硅不能。
C+H2O(g)CO+H2
5.碳跟氢氟酸不反应,而硅能跟氢氟酸反应。
Si+4HF==SiF4↑+2H2↑
6.碳能被浓硫酸(或浓硝酸)氧化生成二氧化碳,但硅不能被浓硫酸(或浓硝酸)氧化。
C+2H2SO4(浓)CO2↑+2SO2↑+2H2O
C+4HNO3(浓)4NO2↑+2H2O+CO2↑
7.碳和硅都具有还原性,且硅的还原性比碳强,但在高温时碳能把硅从SiO2中还原出来。
2C+SiO2Si+2CO↑
8.碳的氯化物都不能自燃,而SiH4能自燃。
SiH4+2O2==SiO2+2H2O
9.通常情况下,周态CO、CO2都是分子晶体,熔、沸点都很低;而SiO2是原子晶体,熔、沸点较高。
10.CO2溶于水且能跟水反应生成碳酸,SiO2却不能.
11.CO2跟氢氟酸不反应,而SiO2能跟氢氟酸反应.
SiO2+4HF==SiF4↑+2H2O
12.CO2跟碱溶液反嘘生成正盐或酸式盐,而SiO2 跟碱溶液反应只生成正盐。
CO2+2NaOH==Na2CO3+H2O
CO2+NaOH==NaHCO3
SiO2+2NaOH==Na2SiO3+H2O
13.在溶液中Na2SiO3可转变为Na2CO3,而在高温条件下Na2CO3又可转变为Na2SiO3。
Na2SiO3+CO2+H2O==Na2CO3+H2SiO3↓
Na2CO3+SiO2Na2SiO3+CO2↑

硅及其化合物的几种反常现象:

1.Si的还原性大于C,但C却能在高温下还原出Si 可从平衡移动的角度理解,由于高温下生成了气态物质CO2它的放出降低了生成物的浓度,有利于应反正向进行,故可发生反应:SiO2+2CSi+2CO↑
2.部分非金属单质能与碱溶液反应,但其中只有 Si与碱反应放出H2 常见的非金属单质与碱溶液的反应有:
Cl2+2NaOH==NaCl+NaClO+H2O①
3S+6NaOH2Na2S+Na2SO3+3H2O②
Si+2NaOH+H2O==Na2SiO3+2H2↑③
在反应①②中,Cl2、S既作氧化剂又作还原剂:在反应③中,Si为还原剂。
3.非金属单质一般不与弱氧化性酸反应,而硅不但能与氢氟酸反应,而且还会产生H2
4.硅酸不能由相应的酸酐与水反应制得制取硅酸的实际过程很复杂,条件不同可得到不同的产物,通常包括原硅酸(H2SiO4)及其脱水得到的一系列酸。原硅酸经两步脱水变为SiO2,SiO2是硅酸的酸酐,是一种不溶于水的同体,不能直接用它制备硅酸,用SiO2制取硅酸时,可先将SiO2溶于烧碱中,再向溶液中加入足量的盐酸或通入过量的CO2,析出的胶状物就是原硅酸,将原硅酸在空气中脱水即得硅酸,反应原理可理解为:
SiO2+2NaOH==Na2SiO3+H2O
Na2SiO3+CO2+2H2O==Na2CO3+H4SiO4↓
H4SiO4==H2SiO3+H2O
5.非金属氧化物的熔沸点一般较低,但SiO2的熔沸点却很高非金属氧化物一般为分子晶体,但SiO2为原子晶体。分子晶体中分子以分子问作用力相结合,而分子间作用力很弱,破坏它使晶体变为液体或气体比较容易;而在SiO2晶体中每个硅原子与四个氧原子相结合,形成硅氧四面体,在每个硅氧四面体结构单元中Si—O 键的键能很高,同时硅氧四面体结构单元可通过共用顶角氧原子连成立体网状结构,所以要使它熔融,必须消耗更多的能量,因此SiO2的熔沸点很高。
6.SiO2是酸性氧化物却能跟HF作用
SiO2+4HF==SiF4↑+2H2O,此反应并不是因为HF的酸性,而是因为为常温下SiF4为气态物质,有利于反应正向进行,这是SiO2的突出特性,当然也是HF 的特性。
7.H2CO3的酸性强于H2SiO3。但却能发生如下反应:Na2CO3+SiO2Na2SiO3+CO2↑
强酸制备弱酸作为判断反应方向的依据,只适用于水溶液体系,而在非水溶液的条件下不一定适用,在高温下能发生反应:Na2CO3+SiO2Na2SiO3+ CO2↑的原因是H2SiO3难挥发,H2CO3易挥发,这符合高沸点物质制低沸点物质的反应规律,与此反应类似的还有:
2NaCl+H2SO4(浓)Na2SO4+2HCl↑
NaNO3+H2SO4(浓)NaHSO4+HNO3↑
上述两反应并不是由于H2SO4的强酸性,而是由于H2SO4为高沸点酸,HCl、HNO3为低沸点酸。

◎ 单质硅的知识拓展

硅的用途:

高纯硅可作半导体材料,制造集成电路、晶体管、硅整流器等半导体器件,还可以制造太阳能电池。硅的合金用途也很广,如含硅4%的钢具有良好的导磁性,可用来制造变压器的铁芯;含硅15%左右的钢具有良好的耐酸性,可用来制造耐酸设备。

◎ 单质硅的教学目标
1、了解硅的原子结构、周期表中的位置及其存在。
2、了解硅的物理性质及用途。
3、掌握硅的化学性质。
4、了解硅的工业制法。
◎ 单质硅的考试要求
能力要求:掌握
课时要求:30
考试频率:必考
分值比重:3

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